ข่าว

สินค้าแนะนำ

ข่าวอุตสาหกรรม

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

2021-12-02

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

การพิมพ์หินเป็นเทคนิคในการถ่ายโอนลวดลายที่ออกแบบไว้โดยตรงหรือผ่านสื่อกลางไปยังพื้นผิวเรียบ ยกเว้นพื้นที่ของพื้นผิวที่ไม่จำเป็นต้องมีลวดลาย

ในการพิมพ์หินแบบมาสก์ การออกแบบจะถูกพิมพ์บนพื้นผิวและสัมผัสกับเลเซอร์เพื่อให้วัสดุที่ฝากไว้ถูกแกะสลักออกไป พร้อมสำหรับการประมวลผลต่อไป วิธีการพิมพ์หินนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์จำนวนมาก

ความสามารถในการฉายภาพที่คมชัดของส่วนเล็กๆ บนแผ่นเวเฟอร์นั้นถูกจำกัดด้วยความยาวคลื่นของแสงที่ใช้ เครื่องมือการพิมพ์หินที่ทันสมัยที่สุดในปัจจุบันใช้แสงอัลตราไวโอเลตแบบลึก (DUV) และในอนาคตความยาวคลื่นเหล่านี้จะยังคงขยายช่วงอัลตราไวโอเลตแบบลึก (193 นาโนเมตร) อัลตราไวโอเลตในสุญญากาศ (157 นาโนเมตรและ 122 นาโนเมตร) และอัลตราไวโอเลตที่รุนแรง (47 นาโนเมตรและ 13 นาโนเมตร) ).

ผลิตภัณฑ์ที่ซับซ้อนและการเปลี่ยนแปลงการออกแบบบ่อยครั้งสำหรับตลาด IC, MEMS และชีวการแพทย์ ซึ่งความต้องการฟังก์ชันและขนาดซับสเตรตที่หลากหลายกำลังเพิ่มขึ้น ได้เพิ่มต้นทุนในการผลิตโซลูชันที่ปรับแต่งได้สูงเหล่านี้ ในขณะเดียวกันก็ลดปริมาณการผลิตลง โซลูชันการพิมพ์หินที่ใช้มาสก์ (มาสก์) แบบดั้งเดิมไม่คุ้มค่าหรือใช้งานได้จริงสำหรับการใช้งานจำนวนมากเหล่านี้ ซึ่งต้นทุนและเวลาที่จำเป็นในการออกแบบและผลิตชุดมาสก์จำนวนมากอาจเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว

อย่างไรก็ตาม การใช้งานการพิมพ์หินแบบไร้หน้ากากไม่ได้ถูกขัดขวางโดยความต้องการความยาวคลื่น UV ที่สั้นมาก และใช้แทนเลเซอร์แหล่งที่มาในช่วงสีน้ำเงินและรังสียูวี

ในการพิมพ์หินแบบไร้หน้ากากเลเซอร์สร้างโครงสร้างไมโคร/นาโนโดยตรงบนพื้นผิวของวัสดุที่ไวต่อแสง วิธีการพิมพ์หินอเนกประสงค์นี้ไม่ต้องอาศัยวัสดุสิ้นเปลืองของหน้ากาก และสามารถเปลี่ยนเค้าโครงได้อย่างรวดเร็ว เป็นผลให้การสร้างต้นแบบและการพัฒนาอย่างรวดเร็วกลายเป็นเรื่องง่าย โดยมีความยืดหยุ่นในการออกแบบมากขึ้น ในขณะที่ยังคงรักษาข้อได้เปรียบของการครอบคลุมพื้นที่ขนาดใหญ่ (เช่น เวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์ 300 มม. จอแบน หรือ PCBS)

เพื่อตอบสนองความต้องการของการผลิตที่รวดเร็วเลเซอร์ที่ใช้สำหรับการพิมพ์หินแบบไร้หน้ากากจะมีลักษณะคล้ายคลึงกับที่ใช้สำหรับการใช้งานแบบปิดหน้ากาก:

แหล่งกำเนิดแสงคลื่นต่อเนื่องมีพลังงานในระยะยาวและความเสถียรของความยาวคลื่น ความกว้างของเส้นแคบ และการเปลี่ยนมาส์กเล็กน้อย
ความมั่นคงมีอายุการใช้งานยาวนานโดยมีการบำรุงรักษาเพียงเล็กน้อยหรือการหยุดชะงักของวงจรการผลิตเป็นสิ่งสำคัญสำหรับทั้งสองการใช้งาน
เลเซอร์ DPSS มีเส้นตรงแคบที่มีความเสถียรเป็นพิเศษ ความเสถียรของความยาวคลื่น และความเสถียรของพลังงาน และเหมาะสำหรับวิธีการพิมพ์หินสองวิธี
เราออกแบบและผลิตเลเซอร์ความถี่เดียวกำลังสูงที่มีความคงตัวของความยาวคลื่นที่ไม่มีใครเทียบได้ ความกว้างของเส้นแคบ และขนาดที่เล็กในช่วงความยาวคลื่นที่มีความยาวแห้งยาว ทำให้เลเซอร์เหล่านี้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการบูรณาการเข้ากับระบบที่มีอยู่

การประยุกต์ใช้ไฟเบอร์สุ่มเลเซอร์ในการตรวจจับแบบกระจาย

ต่อไป:

การประยุกต์ใช้ไฟเบอร์สุ่มเลเซอร์ในการตรวจจับจุดระยะไกลพิเศษ

ข่าว

สินค้าแนะนำ

YDFA ไฟเบอร์แอมพลิฟายเออร์เจือ Ytterbium 1064 นาโนเมตร

ตัวควบคุมโพลาไรซ์ไฟเบอร์แบบแมนนวล

850nm 10mW Superluminescent Diode sld ไดโอด

เลเซอร์ไดโอด DFB ขนาด 1653 นาโนเมตรสำหรับการตรวจจับ CH4

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

ก่อนหน้า:

ต่อไป: