ข่าว

สินค้าแนะนำ

ข่าวอุตสาหกรรม

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

2021-12-02

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

การพิมพ์หินเป็นเทคนิคในการถ่ายโอนลวดลายที่ออกแบบโดยตรงหรือผ่านสื่อกลางไปยังพื้นผิวเรียบ ยกเว้นพื้นที่ของพื้นผิวที่ไม่ต้องการลวดลาย

ในรูปแบบหน้ากากพิมพ์หิน การออกแบบจะพิมพ์ลงบนพื้นผิวและสัมผัสด้วยaเลเซอร์เพื่อให้วัสดุที่สะสมถูกแกะออกไปพร้อมสำหรับการประมวลผลต่อไป วิธีการพิมพ์หินนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์จำนวนมาก

ความสามารถในการฉายภาพที่คมชัดของคุณสมบัติขนาดเล็กบนแผ่นเวเฟอร์ถูกจำกัดด้วยความยาวคลื่นของแสงที่ใช้ เครื่องมือพิมพ์หินที่ทันสมัยที่สุดในปัจจุบันใช้แสงอัลตราไวโอเลตแบบลึก (DUV) และในอนาคตความยาวคลื่นเหล่านี้จะยังคงแผ่ขยายต่อไปในรังสีอัลตราไวโอเลตในระดับลึก (193 นาโนเมตร) รังสีอัลตราไวโอเลตสุญญากาศ (157 นาโนเมตรและ 122 นาโนเมตร) และอัลตราไวโอเลตสุดขั้ว (47 นาโนเมตรและ 13 นาโนเมตร) ).

ผลิตภัณฑ์ที่ซับซ้อนและการเปลี่ยนแปลงการออกแบบบ่อยครั้งสำหรับตลาด IC, MEMS และชีวการแพทย์ ซึ่งความต้องการฟังก์ชันและขนาดพื้นผิวที่หลากหลายเพิ่มขึ้น ได้เพิ่มต้นทุนในการผลิตโซลูชันที่ปรับแต่งได้สูงเหล่านี้ในขณะที่ลดปริมาณการผลิต โซลูชันการพิมพ์หินแบบใช้หน้ากาก (หน้ากาก) แบบดั้งเดิมนั้นไม่คุ้มราคาหรือใช้งานได้จริงสำหรับแอปพลิเคชันเหล่านี้จำนวนมาก โดยที่ต้นทุนและเวลาที่ต้องใช้ในการออกแบบและผลิตชุดหน้ากากจำนวนมากสามารถเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว

อย่างไรก็ตาม การใช้งานการพิมพ์หินแบบไม่มีหน้ากากไม่ได้ขัดขวางความต้องการความยาวคลื่น UV ที่สั้นมาก และใช้แทนเลเซอร์แหล่งที่มาในช่วงสีน้ำเงินและ UV

ในการพิมพ์หินไร้หน้ากากเลเซอร์สร้างโครงสร้างไมโคร/นาโนโดยตรงบนพื้นผิวของวัสดุที่ไวต่อแสง วิธีการพิมพ์หินแบบอเนกประสงค์นี้ไม่ต้องพึ่งพาวัสดุสิ้นเปลืองของหน้ากาก และการเปลี่ยนแปลงเค้าโครงสามารถทำได้อย่างรวดเร็ว ด้วยเหตุนี้ การสร้างต้นแบบอย่างรวดเร็วและการพัฒนาจึงง่ายขึ้น ด้วยความยืดหยุ่นในการออกแบบที่มากขึ้น ในขณะที่ยังคงความได้เปรียบของการครอบคลุมพื้นที่ขนาดใหญ่ (เช่น แผ่นเซมิคอนดักเตอร์ 300 มม. จอแบน หรือ PCBS)

เพื่อตอบสนองความต้องการของการผลิตที่รวดเร็วเลเซอร์ที่ใช้สำหรับการพิมพ์หินแบบไม่มีหน้ากากมีลักษณะคล้ายคลึงกับที่ใช้กับการใช้หน้ากาก:

แหล่งกำเนิดแสงแบบคลื่นต่อเนื่องมีพลังงานระยะยาวและความเสถียรของความยาวคลื่น ความกว้างของเส้นที่แคบ และการเปลี่ยนหน้ากากเล็กน้อย
ความเสถียรตลอดอายุการใช้งานโดยการบำรุงรักษาเพียงเล็กน้อยหรือการหยุดชะงักของรอบการผลิตเป็นสิ่งสำคัญสำหรับทั้งสองการใช้งาน
เลเซอร์ DPSS มีเส้นตรงแคบที่เสถียรเป็นพิเศษ ความเสถียรของความยาวคลื่น และความเสถียรของพลังงาน และเหมาะสำหรับวิธีการพิมพ์หินสองวิธี
เราออกแบบและผลิตเลเซอร์ความถี่เดียวกำลังสูงที่มีความเสถียรของความยาวคลื่นที่ไม่มีใครเทียบ ความกว้างของเส้นที่แคบ และรอยเท้าขนาดเล็กตลอดช่วงความยาวคลื่นของความยาวแบบแห้งยาว ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการรวมเข้ากับระบบที่มีอยู่

การประยุกต์ใช้ไฟเบอร์สุ่มเลเซอร์ในการตรวจจับแบบกระจาย

ต่อไป:

การประยุกต์ใช้ไฟเบอร์สุ่มเลเซอร์ในการตรวจจับจุดระยะไกลพิเศษ

ข่าว

สินค้าแนะนำ

YDFA ไฟเบอร์แอมพลิฟายเออร์เจือ Ytterbium 1064 นาโนเมตร

ตัวควบคุมโพลาไรซ์ไฟเบอร์แบบแมนนวล

850nm 10mW Superluminescent Diode sld ไดโอด

เลเซอร์ไดโอด DFB ขนาด 1653 นาโนเมตรสำหรับการตรวจจับ CH4

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

เลเซอร์สำหรับการพิมพ์หิน

ก่อนหน้า:

ต่อไป: